- 您的位置:
- 快3网下载安装到手机 >>
- 全部标准分类 >>
- 国家标准 >>
- H17 >>
- GB/T 17170-2015 半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法

【国家标准】 半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法
本网站 发布时间:
2016-07-01
开通会员免费在线看70000余条国内标准,赠送文本下载次数,单本最低仅合13.3元!还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权!  
查看详情>>

文前页下载
适用范围:
本标准规定了半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度的红外吸收测试方法。本标准适用于电阻率大于106 Ω·cm的非掺杂和碳掺杂半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度的测定。本标准不适用于掺铬半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度的测定。
标准号:
GB/T 17170-2015
标准名称:
半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法
英文名称:
Test method for the EL2 deep donor concentration in semi-insulating gallium arsenide single crystals by infrared absorption spectroscopy标准状态:
现行-
发布日期:
2015-12-10 -
实施日期:
2016-07-01 出版语种:
中文简体
- 其它标准
- 推荐标准
- GB/T 11068-2006 砷化镓外延层载流子浓度 电容-电压测量方法
- GB/T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法
- GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法
- GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 35306-2023 硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
- GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程
- GB/T 19199-2015 半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法
- GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
- GB/T 14849.1-2020 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定
- GB/T 14849.3-2020 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定
- GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
- GB/T 1558-2023 硅中代位碳含量的红外吸收测试方法
- GB/T 42263-2022 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 42276-2022 氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法
- GB/T 24581-2022 硅单晶中Ⅲ、Ⅴ族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法