【国家标准】用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

本网站发布时间： 2018-07-02

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标准简介

本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。本标准适用于尺寸为600 μm～3 000 μm的颗粒状多晶硅，其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标准执行。

标准号：
GB/T 35309-2017
标准名称：
用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程
英文名称：
Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies
标准状态：
现行
发布日期：
2017-12-29
实施日期：
2018-07-01
出版语种：
中文简体

起草人：
王桃霞、刘晓霞、耿全荣、鲁文锋、柳德发、胡伟、邱艳梅、银波、由佰玲、秦榕、严大洲
起草单位：
江苏中能硅业科技发展有限公司、新特能源股份有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、洛阳中硅高科技有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

【国家标准】 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程