【国家标准】表面化学分析　硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

本网站发布时间： 2014-08-29

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标准简介

本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。

标准号：
GB/T 30701-2014
标准名称：
表面化学分析　硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
英文名称：
Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
标准状态：
现行
发布日期：
2014-06-09
实施日期：
2014-12-01
出版语种：
中文简体

【国家标准】 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定