【国家标准】硅材料中氧含量的测试　惰性气体熔融红外法

本网站发布时间： 2021-06-01

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标准简介

本标准规定了采用惰性气体熔融及红外技术测试硅材料中氧含量的方法。
本标准适用于不同导电类型、不同电阻率范围的硅单晶、多晶硅中氧含量的测试，测试范围为2.5×1015 cm-3（0.05 ppma)～2.5×1018 cm-3（50 ppma)。
注：硅材料中的氧含量以每立方厘米中的原子数计。

标准号：
GB/T 38976-2020
标准名称：
硅材料中氧含量的测试　惰性气体熔融红外法
英文名称：
Test method for the oxygen concentration in silicon materials—Inert gas fusion infrared detection method
标准状态：
现行
发布日期：
2020-07-21
实施日期：
2021-06-01
出版语种：
中文简体

起草人：
王永涛、孙燕、徐新华、胡金枝、任丹雅、赵志婷、蔡丽艳、杨素心、陆敏、林兴乐
起草单位：
有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、北京聚睿众邦科技有限公司、厦门银固美能源科技有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：
快3网下载安装到手机、国家标准化管理委员会

【国家标准】 硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法