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【国家标准】 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

本网站 发布时间： 2019-05-01
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适用范围：

暂无

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 19444-2004

  • 标准名称：

    硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

  • 英文名称：

    Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2004-02-05

  • 实施日期：

    2004-07-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    29.040.01

  • 中标分类号：

    H26

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    8 页

  • 字数：

    9 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    蒋建国、屠妹英、贺东江、章云杰

  • 起草单位：

    洛阳单晶硅有限责任公司和中国有色金属工业标准计量质量研究所

  • 归口单位：

    全国有色金属标准化技术委员会

  • 提出部门：

    中国有色金属工业协会

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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