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【国家标准】 表面化学分析　二次离子质谱　用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

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适用范围：

本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。

读者对象：

电子光学仪器表面化学分析检验技术人员。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 20176-2006

  • 标准名称：

    表面化学分析　二次离子质谱　用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

  • 英文名称：

    Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2006-03-27

  • 实施日期：

    2006-11-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.040.40

  • 中标分类号：

    N33

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

    IDT 等同采用

出版信息

  • 页数：

    20 页

  • 字数：

    32 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    查良镇、陈旭、黄雁华、王光普、黄天斌、刘林、葛欣、桂东

  • 起草单位：

    清华大学电子工程系

  • 归口单位：

    全国微束标准化技术委员会

  • 提出部门：

    全国微束标准化技术委员会

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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