【国家标准】微电子学微光刻技术术语

本网站发布时间： 2025-02-08

GB/T 44928-2024
现行
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标准简介

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适用范围：

本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术，先进光刻技术，微光刻图形化和图形数据处理技术，微光刻感光材料、铬板与基板材料，光掩模技术，光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术，电子束掩模制造与直写技术，光刻及掩模质量参数测量和评定，掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。
本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。

基本信息

标准号：
GB/T 44928-2024
标准名称：
微电子学微光刻技术术语
英文名称：
Terms of microlithography technology for microelectronics
标准状态：
现行
发布日期：
2024-12-31
实施日期：
2024-12-31
出版语种：
中文简体

标准分类号

标准ICS号：
31.030
中标分类号：
L90

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
192 页
字数：
351 千字
开本：
大16 开

其他信息

起草人：
陈宝钦、王香、李和委、王力玉、李新涛、冯伯儒、薛丽君、郝美玲、薛彩荣
起草单位：
中国科学院微电子研究所
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
发布部门：
快3网下载安装到手机、国家标准化管理委员会

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