- 您的位置:
- 快3网下载安装到手机 >>
- 全部标准分类 >>
- 国家标准 >>
- H80 >>
- GB/T 14844-2018 半导体材料牌号表示方法
开通会员免费在线看70000余条国内标准,赠送文本下载次数,单本最低仅合13.3元!还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权!  
查看详情>>
标准号:
GB/T 14844-2018
标准名称:
半导体材料牌号表示方法
英文名称:
Designations of semiconductor materials标准状态:
现行-
发布日期:
2018-12-28 -
实施日期:
2019-11-01 出版语种:
中文简体
起草人:
楼春兰、毛卫中、杨素心、汪新华、邹剑秋、孙燕、潘金平、刘晓霞、马林宝、宫龙飞、张雪囡、丁晓民、贺东江起草单位:
浙江省硅材料质量检验中心、有色金属技术经济研究院、有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、东莞中镓半导体科技有限公司、南京国盛电子有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、苏州协鑫光伏科技有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
快3网下载安装到手机 、中国国家标准化管理委员会
- 其它标准
- 推荐标准
- GB/T 14844-2018 半导体材料牌号表示方法
- GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
- GB/T 1554-2009 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
- GB/T 16596-2019 确定晶片坐标系规范
- GB/T 24574-2009 硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法
- GB/T 24576-2009 高分辨率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法
- GB/T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
- GB/T 24579-2009 酸浸取 原子吸收光谱法测定 多晶硅表面金属污染物
- GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
- GB/T 25075-2010 太阳能电池用砷化镓单晶
- GB/T 13387-2009 硅及其他电子材料晶片参考面长度测量方法
- GB/T 13389-2014 掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
- GB/T 6617-2009 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
- GB/T 6624-2009 硅抛光片表面质量目测检验方法
- GB/T 8756-2018 锗晶体缺陷图谱